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密閉高低溫循環(huán)裝置(實驗型)

簡要描述:應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。密閉高低溫循環(huán)裝置(實驗型)-SUNDI-420W

  • 產(chǎn)品型號:SUNDI-420W
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-12-21
  • 訪  問  量:1115
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥

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無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制



型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質(zhì)溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質(zhì)溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質(zhì)。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/



密閉高低溫循環(huán)裝置(實驗型)

密閉高低溫循環(huán)裝置(實驗型)

  化工制冷加熱循環(huán)設備主要是應用于玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫操控。其適合在反應進程中有需熱、放熱進程操控,溫度精確操控。其中循環(huán)泵是設備的配件之一,其價格與設備價格有哪些影響因素呢?

  化工制冷加熱循環(huán)設備的溫度范圍、對稱度和揮發(fā)性等技術,即使與基本尺寸的化工制冷加熱循環(huán)設備泵相比,其尺寸很小但價格可能也不合算。一般情況下,不同廠家的化工制冷加熱循環(huán)設備泵價格差異較大,不同的規(guī)格和尺寸會有相對的價格差異。

  不論尺寸大小,無錫冠亞化工制冷加熱循環(huán)設備的溫度范圍總是決定著化工制冷加熱循環(huán)設備泵的價格。有時候,如果選擇化工制冷加熱循環(huán)設備泵的溫度范圍較大,其價格肯定會高于溫控范圍小的化工制冷加熱循環(huán)設備泵。

  一般情況下,低溫越低,花費越大;高溫越高,花費也越大;溫度范圍和其他技術標準都相同的化工制冷加熱循環(huán)設備泵,外觀尺寸的不同,價格也會有所差異。若工藝標準中沒有特殊要求,大的價格就會更低。

  無錫冠亞化工制冷加熱循環(huán)設備的機體整個體系的液體循環(huán)是密閉的,體系帶有脹大容器。脹大容器和液體循環(huán)是絕熱的,并不參與液體循環(huán),只是機械的銜接,將高、中、低溫熱源綜合在一臺設備上。選用全密閉管道式設計及有效板式熱交換器,降低導熱液需求量的同時提供體系的熱量利用率,到達快速升降降溫度。低溫時沒有水汽的吸取,高溫時沒有油霧的產(chǎn)生,可進行從-120200度連續(xù)升降溫。

化工制冷加熱循環(huán)設備廣泛適用于化學、生物、物理實驗室,是大專院校、生化、醫(yī)療、化工、高分子工程等實驗室的冷、熱源設備。


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