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集成電路晶圓制造Chiller用于蝕刻裝置

簡要描述:【無錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,?泛應(yīng)?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。集成電路晶圓制造Chiller用于蝕刻裝置

  • 產(chǎn)品型號:LTS-202
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-01-11
  • 訪  問  量:711
詳情介紹
品牌冠亞制冷冷卻方式水冷式
價格區(qū)間10萬-50萬產(chǎn)地類別國產(chǎn)
儀器種類一體式應(yīng)用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥,汽車



無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的半導體控溫解決方案

主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,

?泛應(yīng)?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。




【 冠亞制冷 】半導體行業(yè)主營控溫產(chǎn)品:

半導體專溫控設(shè)備

射流式?低溫沖擊測試機

半導體專用溫控設(shè)備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)

Chiller直冷型

循環(huán)風控溫裝置

半導體?低溫測試設(shè)備

電?設(shè)備?溫低溫恒溫測試冷熱源

射流式高低溫沖擊測試機

快速溫變控溫卡盤

數(shù)據(jù)中心液冷解決方案


型號FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
溫度范圍5℃~40℃
控溫精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
內(nèi)循環(huán)液容積4L5L6L8L10L12L20L
膨脹罐容積10L10L15L15L20L25L35L
制冷劑R410A
載冷劑硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI溫度需要控制10℃以上)
進出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷卻水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷卻水流量at20℃1.5m3/h2m3/h2.5m3/h4m3/h4.5m3/h5.6m3/h9m3/h
電源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
溫度擴展通過增加電加熱器,擴展-25℃~80℃





集成電路晶圓制造Chiller用于蝕刻裝置

集成電路晶圓制造Chiller用于蝕刻裝置


  淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller是一種用于冷卻半導體的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導體制造工序各種應(yīng)用場景。以下是淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller的一些常見應(yīng)用場景:

  1、半導體制造

  在半導體制造過程中,需要使用大量的半導體設(shè)備,如晶圓制造設(shè)備、封裝測試設(shè)備等。這些設(shè)備在工作時會產(chǎn)生大量的熱量,如果熱量控制不當,就會影響設(shè)備的性能和穩(wěn)定性。淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller可以用于冷卻這些設(shè)備,保證設(shè)備的正常運行和生產(chǎn)效率。

  2、元器件電子設(shè)備

  電力電子設(shè)備如整流器、逆變器、電源等在工作時會產(chǎn)生大量的熱量,如果熱量控制不當,就會導致設(shè)備故障或性能下降。淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller可以用于冷卻這些設(shè)備,保證設(shè)備的正常運行和穩(wěn)定性。

  3、通信設(shè)備

  通信設(shè)備如基站、交換機、路由器等在工作時會產(chǎn)生大量的熱量,如果熱量控制不當,就會影響設(shè)備的通信質(zhì)量和穩(wěn)定性。淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller可以用于冷卻這些設(shè)備,保證設(shè)備的正常運行和穩(wěn)定性。

總之,淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller在各種應(yīng)用場景中都發(fā)揮著一定作用,可以保證設(shè)備的正常運行和穩(wěn)定性,提高生產(chǎn)效率和質(zhì)量。




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